The 2 references in paper T. Ismailov A., D. Evdulov V., A. Mustafaev G., D. Ramazanova K., Т. Исмаилов А., Д. Евдулов В., А. Мустафаев Г., Д. Рамазанова К. (2016) “УСТРОЙСТВА ДЛЯ ОХЛАЖДЕНИЯ ЭЛЕКТРОННЫХ ПЛАТ // DEVICES FOR COOLING ELECTRONIC CIRCUIT BOARDS” / spz:neicon:vestnik:y:2014:i:4:p:50-56

1
Барыбин А.А., Сидоров В.Г. Физико-технологические основы электроники. – СПб.: Лань. – 2001.
(check this in PDF content)
2
Патент РФ No2174292. Устройство для отвода тепла и термостабилизации электронных плат // Исмаилов Т.А., Евдулов О.В., Аминов Г.И., Юсуфов Ш.А., 2001. УДК 631.582 Исмаилов Т.А., Захарова П.Р., Шангереева Б.А., Шахмаева А.Р. ИССЛЕДОВАНИЕ ПРОЦЕССА ПЛАЗМОХИМИЧЕСКОГО ТРАВЛЕНИЯ ПЛЕНОК SIO2 Ismailov T.A., Zakharova P.R., Shangereeva B.A., Shakhmaeva A.R. RESEARCH PROCESS PLASMA ETCHING SIO2 MEMBRANE В статье рассматриваются результаты плазмохимического травления диоксида кремния во фторсодержащей среде при изготовлении полупроводниковых приборов. Поставлено и рассмотрено решение задачи получения сглаженного микрорельефа контактных окон в SiO2 других материалах. Решение Температура T (К)
(check this in PDF content)