The 3 references in paper B. Shangereeva A., Б. Шангереева А. (2016) “ОСНОВНЫЕ МЕТОДЫ ФОРМИРОВАНИЯ ОКИСНЫХ СЛОЕВ В ИЗГОТОВЛЕНИИ ПОЛУПРОВОДНИКОВЫХ ПРИБОРОВ И ИС // THE MAIN METHODS OF FORMATION OF OXIDE LAYERS IN THE PRODUCTION OF SEMICONDUCTOR DEVICES AND IP” / spz:neicon:vestnik:y:2013:i:2:p:26-33

1
Пленочная микроэлектроника. Перевод с англ. Под ред. М.И. Елинсона. Изд.-во. «МИР», 1968.
(check this in PDF content)
2
Технология СБИС под редакцией С.Зи. в 2-х кн.. –М.:,1986, -с174-226.
(check this in PDF content)
3
Технология полупроводниковых и диэлектрических материалов Ю.М. Таиров В.Ф.Цветков Москва «Высшая школа» 1990г
(check this in PDF content)