The 4 reference contexts in paper A. Artamonov M., А. Артамонов М. (2017) “ЧИСЛЕННОЕ МОДЕЛИРОВАНИЕ ПРОЦЕССОВ КОНДЕНСАЦИИ ТОНКИХ ПЛЕНОК И ПРЕДПРОИЗВОДСТВЕННЫЙ АНАЛИЗ ЛИНЕЙНЫХ ПЕРЕСТРАИВАЕМЫХ ФИЛЬТРОВ // NUMERICAL SIMULATION OF THIN FILM CONDENSATION PROCESSES AND PRE-PRODUCTION ANALYSIS OF LINEAR VARIABLE FILTERS” / spz:neicon:vestift:y:2017:i:2:p:49-53

  1. Start
    4119
    Prefix
    Линейные перестраиваемые фильтры (Linear Variable Filter) представляют собой класс полосовых фильтров на основе сложных многослойных интерференционных покрытий и обладают линейной анизотропией оптических свойств по одной из геометрических осей, которая позволяет перестраивать выделяемую (фильтруемую) длину волны оптического излучения
    Exact
    [1, с. 44–49]
    Suffix
    . Анизотропия оптических свойств как правило осуществляется за счет создания управляемой неравномерности вдоль оси, по которой происходит перестроение длины волны. При этом © Артамонов А. М., 2017 основным параметром такого типа полосовых фильтров является величина спектрального градиента, определяющая изменение оптической характеристики на единицу длины фильтра.
    (check this in PDF content)

  2. Start
    4743
    Prefix
    М., 2017 основным параметром такого типа полосовых фильтров является величина спектрального градиента, определяющая изменение оптической характеристики на единицу длины фильтра. Одним из способов управления неравномерностью тонкопленочных покрытий, получаемых в процессах вакуумного напыления, является вакуумное маскирование
    Exact
    [2, с. 106–107]
    Suffix
    . Такой способ в основном применяется для формообразования оптических поверхностей, а также для повышения степени равномерности вакуумного напыления покрытий сверх той, которая обусловлена геометрией расположения технологических устройств и подложки [3].
    (check this in PDF content)

  3. Start
    5009
    Prefix
    Такой способ в основном применяется для формообразования оптических поверхностей, а также для повышения степени равномерности вакуумного напыления покрытий сверх той, которая обусловлена геометрией расположения технологических устройств и подложки
    Exact
    [3]
    Suffix
    . Цель работы состояла в определении параметров геометрии вакуумной маски и расположения в пространстве вакуумной камеры для получения линейного перестраиваемого фильтра с величиной спектрального градиента 20 нм/мм в диапазоне длин волн 400–700 нм.
    (check this in PDF content)

  4. Start
    6137
    Prefix
    Плотность конденсирующихся частиц можно получить, учитывая произвольно расположенный элемент площади поверхности подложки dA, а выражение (1) представить в следующем виде: 2cos cos , Q J r = qφ π (2) где φ – угол от нормали элемента площади поверхности подложки. В работах
    Exact
    [3–5]
    Suffix
    вычисление распределения сконденсировавшегося материала на поверхности подложки выполняется аналитическим интегрированием. При этом для системы источник– подложка выводится частная подынтегральная функция из уравнения (2) с учетом особенностей системы, таких как: геометрия подложки, геометрия источника, движение подложки относительно источника и других параметров, описывающих систему.
    (check this in PDF content)