The 10 reference contexts in paper I. Kovenskiy M., S. Malysh V., V. Povetkin V., И. Ковенский М., С. Малыш В., В. Поветкин В. (2018) “СТРУКТУРНЫЕ ОСОБЕННОСТИ ПРОЦЕССА ЭЛЕКТРОЛИТИЧЕСКОГО ХРОМИРОВАНИЯПРИ ВОССТАНОВЛЕНИИ ИЗНОШЕННЫХ ДЕТАЛЕЙ // STRUCTURAL PECULIARITIES OF THE PROCESS OF ELECTROLYTIC CHROMIUM PLATING IN RESTORATION OF WORN PARTS” / spz:neicon:tumnig:y:2018:i:1:p:92-97

  1. Start
    3108
    Prefix
    ; дырочный полупроводник; структура поверхности Key words: electrolytic chromium plating; thermal EMF; hole semiconductor; surface structure При восстановлении изношенных тяжело нагруженных деталей электролитическим хромированием возможны виды брака, когда осаждение хрома происходит только на отдельных участках детали или же покрытие отслаивается при последующем шлифовании. В работе
    Exact
    [1]
    Suffix
    на специально подготовленных образцах экспериментально показано, что при разбросе величины термо-эдс по поверхности более 100 mV хром осаждается только в местах с наименьшим значением термоэдс.
    (check this in PDF content)

  2. Start
    4206
    Prefix
    аналогию между процессами, происходящими на границе металл — пол упроводник и металл — электролит, основываясь на следующих фактах: • в режиме слабого тока зависимость электрического тока от потенциала в водных растворах электролитов CuSO4, H2SO4, KOH подчиняется закону Ома, и при постоянном потенциале плотность тока остается постоянной, свидетельствуя, согласно работе
    Exact
    [2]
    Suffix
    , о наличии электронной проводимости в электролитах; • вода имеет довольно упорядоченную структуру, которой объясняются необычно высокие значения теплоты испарения, энтропии испарения, температуры кипения и диэлектрической проницаемости [3], что непосредственно связано с тетраэдрической направленностью связей при отсутствии явных дефектов пространственной сетки.
    (check this in PDF content)

  3. Start
    4462
    Prefix
    , KOH подчиняется закону Ома, и при постоянном потенциале плотность тока остается постоянной, свидетельствуя, согласно работе [2], о наличии электронной проводимости в электролитах; • вода имеет довольно упорядоченную структуру, которой объясняются необычно высокие значения теплоты испарения, энтропии испарения, температуры кипения и диэлектрической проницаемости
    Exact
    [3]
    Suffix
    , что непосредственно связано с тетраэдрической направленностью связей при отсутствии явных дефектов пространственной сетки. На рисунке 1 представлена схема исходной сетки водородных связей воды (I) и преобразования тетраэдрического фрагмента из молекул воды при диссоциации (II) [4].
    (check this in PDF content)

  4. Start
    4753
    Prefix
    значения теплоты испарения, энтропии испарения, температуры кипения и диэлектрической проницаемости [3], что непосредственно связано с тетраэдрической направленностью связей при отсутствии явных дефектов пространственной сетки. На рисунке 1 представлена схема исходной сетки водородных связей воды (I) и преобразования тетраэдрического фрагмента из молекул воды при диссоциации (II)
    Exact
    [4]
    Suffix
    . Вначале рассмотрим, в чем сходство между полупроводником и водным раствором хромового ангидрида, являющегося основой электролита хромирования. В качестве полупроводника примем кремний. При комнатной температуре нелегированный кремний не проводит электрический ток.
    (check this in PDF content)

  5. Start
    11054
    Prefix
    Соответствующая зонная диаграмма системы металл — электролит будет иметь вид, показанный на рисунке 4. Зонные диаграммы на рисунках 3 и 4 хорошо объясняют катодные поляризационные кривые хромовокислых электролитов (рис. 5)
    Exact
    [5]
    Suffix
    . Кривая 1 отражает катодный процесс, протекающий в системе металл — электролит, имеющей зонную диаграмму, приведенную на рисунке 3 (электролит состоит из водного раствора хромового ангидрида).
    (check this in PDF content)

  6. Start
    12716
    Prefix
    Ток катода резко возрастает (участок c–d), при этом на катоде протекают следующие три реакции: восстановление шестивалентного хрома до металлического; восстановление ионов шестивалентного хрома до трехвалентного; выделение водорода. Рассмотрим теперь случай, когда структура поверхности неоднородна. На примере
    Exact
    [1]
    Suffix
    показано, что хром не осаждается на образцах, у которых разность термо-эдс между соседними областями (на поверхности азотированного слоя и на поверхности упрочненного основного металла) максимальна и составляет порядка 90 мВ.
    (check this in PDF content)

  7. Start
    13122
    Prefix
    , что хром не осаждается на образцах, у которых разность термо-эдс между соседними областями (на поверхности азотированного слоя и на поверхности упрочненного основного металла) максимальна и составляет порядка 90 мВ. Поскольку работа выхода в областях с пластической деформацией поверхности детали будет иметь меньшую работу выхода электрона, чем область с азотируемой поверхностью
    Exact
    [6, 7]
    Suffix
    , создаются две параллельные структуры с разным искривлением энергетических зон электролита. Для протекания тока и, следовательно, осаждения хрома на область детали с пластической деформацией необходимо приложить больший потенциал, чем на область детали с азотированной поверхностью.
    (check this in PDF content)

  8. Start
    13506
    Prefix
    Для протекания тока и, следовательно, осаждения хрома на область детали с пластической деформацией необходимо приложить больший потенциал, чем на область детали с азотированной поверхностью. Так как осаждение хрома значительно зависит от потенциала на катоде
    Exact
    [8]
    Suffix
    , то при большой разнице в работах выхода хром не будет осаж даться в областях с высокой пластической деформацией. При этом различные области катода имеют разные значения работы выхода электрона и, согласно эффекту Зеебека, они имеют различные значения термо-эдс.
    (check this in PDF content)

  9. Start
    14199
    Prefix
    образом, при измерении разброса термо-эдс по поверхности детали косвенно определяется разброс значений работы выхода электрона в различных областях детали, и, соответственно, разброс значений катодных потенциалов. Таким образом, сходство процессов, проходящих в системах металл — пол упроводник и металл — электролит, позволяет обосновать возможность применения предложенного в работе
    Exact
    [1]
    Suffix
    метода контроля подготовки поверхности детали к хромированию измерением разброса термо-эдс по поверхности детали. Использование методики дало положительный результат, заключающийся в устранении брака, связанного с подготовкой поверхности перед восстановлением деталей хромированием [9].
    (check this in PDF content)

  10. Start
    14500
    Prefix
    и металл — электролит, позволяет обосновать возможность применения предложенного в работе [1] метода контроля подготовки поверхности детали к хромированию измерением разброса термо-эдс по поверхности детали. Использование методики дало положительный результат, заключающийся в устранении брака, связанного с подготовкой поверхности перед восстановлением деталей хромированием
    Exact
    [9]
    Suffix
    .
    (check this in PDF content)