The 15 references with contexts in paper L. Miao, Yu. Grishin M., Л. Мяо, Ю. Гришин М. (2016) “Численное моделирование плазмодинамических процессов в технологическом ВЧИ-плазмотроне с газовым охлаждением // Numerical Simulation of Plasma-Dynamical Processes in the Technological Inductively Coupled RF Plasmatron with Gas Cooling” / spz:neicon:technomag:y:2016:i:5:p:104-121

1
Boulos M.I. The inductively coupled radio frequency plasma // High Temp. Material Processes. 1997 Vol. 1, pp. 17-39. DOI: 10.1615/HighTempMatProc.v1.i1.20
Total in-text references: 1
  1. In-text reference with the coordinate start=1611
    Prefix
    Ключевые слова: ВЧИ-плазмотрон, параметры плазмы, структура потока, вихрь Введение Безэлектродные высокочастотные индукционные (ВЧИ) плазмотроны нашли широкое применение в различных областях техники, науки и технологии
    Exact
    [1]
    Suffix
    . В настоящее время, в связи с разработкой новых технологий получения особо чистых веществ [2-4], нанопорошков [5, 6], плазмохимических технологий [7] и др., интерес к индукционной плазме стабильно возрастает [8, 9].

2
Новиков И.Н., Кручинин А.М. Обработка мелкодисперсных порошков силиката циркония в струе ВЧИ-плазмотрона // Письма в ЖТФ. 2014. Т.40, No 20. С.17-21.
Total in-text references: 1
  1. In-text reference with the coordinate start=1706
    Prefix
    Ключевые слова: ВЧИ-плазмотрон, параметры плазмы, структура потока, вихрь Введение Безэлектродные высокочастотные индукционные (ВЧИ) плазмотроны нашли широкое применение в различных областях техники, науки и технологии [1]. В настоящее время, в связи с разработкой новых технологий получения особо чистых веществ
    Exact
    [2-4]
    Suffix
    , нанопорошков [5, 6], плазмохимических технологий [7] и др., интерес к индукционной плазме стабильно возрастает [8, 9]. Между тем, при реализации конкретных технологий одной из основных проблем является отсутствие надежных методик определения рабочих характеристик плазмотрона, связанных с регулированием и оценкой тепловой мощности струи, пространственного распределения основных параметров пото

3
Борисов Л.А., Гришин Ю.М., Козлов Н.П. Экспериментальные исследования состава примесей частиц природного кварца в дисперсном плазменном потоке // Теплофизика высоких температур. 2007. Т. 45, No 5. С. 777–781.
Total in-text references: 1
  1. In-text reference with the coordinate start=1706
    Prefix
    Ключевые слова: ВЧИ-плазмотрон, параметры плазмы, структура потока, вихрь Введение Безэлектродные высокочастотные индукционные (ВЧИ) плазмотроны нашли широкое применение в различных областях техники, науки и технологии [1]. В настоящее время, в связи с разработкой новых технологий получения особо чистых веществ
    Exact
    [2-4]
    Suffix
    , нанопорошков [5, 6], плазмохимических технологий [7] и др., интерес к индукционной плазме стабильно возрастает [8, 9]. Между тем, при реализации конкретных технологий одной из основных проблем является отсутствие надежных методик определения рабочих характеристик плазмотрона, связанных с регулированием и оценкой тепловой мощности струи, пространственного распределения основных параметров пото

4
Гришин Ю.М., Козлов Н.П., Скрябин А.С. Экспериментальные исследования плазмохимического метода прямого получения кремния из кварца // ТВТ. 2012. No 50, No 4. С. 491–496.
Total in-text references: 2
  1. In-text reference with the coordinate start=1706
    Prefix
    Ключевые слова: ВЧИ-плазмотрон, параметры плазмы, структура потока, вихрь Введение Безэлектродные высокочастотные индукционные (ВЧИ) плазмотроны нашли широкое применение в различных областях техники, науки и технологии [1]. В настоящее время, в связи с разработкой новых технологий получения особо чистых веществ
    Exact
    [2-4]
    Suffix
    , нанопорошков [5, 6], плазмохимических технологий [7] и др., интерес к индукционной плазме стабильно возрастает [8, 9]. Между тем, при реализации конкретных технологий одной из основных проблем является отсутствие надежных методик определения рабочих характеристик плазмотрона, связанных с регулированием и оценкой тепловой мощности струи, пространственного распределения основных параметров пото

  2. In-text reference with the coordinate start=17317
    Prefix
    Плазменный поток с такими параметрами может обеспечить условия для высокой эффективности процессов испарения частиц, вводимых в плазму транспортирующим газом при реализации технологических процессов получения кремния
    Exact
    [4,11]
    Suffix
    или нанопорошков [5,6]. В плазменных технологиях обогащения нужно ограничиться режимами ВЧИ-плазмотрона с меньшими токами разряда. 4 Рис.6. Распределение средней массовой температуры плазменного потока в ВЧИ-плазмотроне по осевой координате: 1- кJ=50 A; 2- 130 A; 3 – 170 A.

5
Ameya B., Christopher R.P, Steven A.C, Carter С.B. Synthesis of highly oriented, singlecrystal silicon nanoparticles in a low-pressure inductively coupled plasma // Journal of Applied Physics. 2003. vol. 94, no.3. pp. 1969–1974. DOI: 10.1063/1.1586957
Total in-text references: 2
  1. In-text reference with the coordinate start=1727
    Prefix
    Ключевые слова: ВЧИ-плазмотрон, параметры плазмы, структура потока, вихрь Введение Безэлектродные высокочастотные индукционные (ВЧИ) плазмотроны нашли широкое применение в различных областях техники, науки и технологии [1]. В настоящее время, в связи с разработкой новых технологий получения особо чистых веществ [2-4], нанопорошков
    Exact
    [5, 6]
    Suffix
    , плазмохимических технологий [7] и др., интерес к индукционной плазме стабильно возрастает [8, 9]. Между тем, при реализации конкретных технологий одной из основных проблем является отсутствие надежных методик определения рабочих характеристик плазмотрона, связанных с регулированием и оценкой тепловой мощности струи, пространственного распределения основных параметров потока и т.д.

  2. In-text reference with the coordinate start=17340
    Prefix
    Плазменный поток с такими параметрами может обеспечить условия для высокой эффективности процессов испарения частиц, вводимых в плазму транспортирующим газом при реализации технологических процессов получения кремния [4,11] или нанопорошков
    Exact
    [5,6]
    Suffix
    . В плазменных технологиях обогащения нужно ограничиться режимами ВЧИ-плазмотрона с меньшими токами разряда. 4 Рис.6. Распределение средней массовой температуры плазменного потока в ВЧИ-плазмотроне по осевой координате: 1- кJ=50 A; 2- 130 A; 3 – 170 A.

6
Тимошенков С.П., Прокопьев Е.П., Дьячков С.А., Синтез мелкодисперсных порошков в ВЧИ плазме //Физика и химия обработки материалов. 2002. No 5. С. 26-31.
Total in-text references: 2
  1. In-text reference with the coordinate start=1727
    Prefix
    Ключевые слова: ВЧИ-плазмотрон, параметры плазмы, структура потока, вихрь Введение Безэлектродные высокочастотные индукционные (ВЧИ) плазмотроны нашли широкое применение в различных областях техники, науки и технологии [1]. В настоящее время, в связи с разработкой новых технологий получения особо чистых веществ [2-4], нанопорошков
    Exact
    [5, 6]
    Suffix
    , плазмохимических технологий [7] и др., интерес к индукционной плазме стабильно возрастает [8, 9]. Между тем, при реализации конкретных технологий одной из основных проблем является отсутствие надежных методик определения рабочих характеристик плазмотрона, связанных с регулированием и оценкой тепловой мощности струи, пространственного распределения основных параметров потока и т.д.

  2. In-text reference with the coordinate start=17340
    Prefix
    Плазменный поток с такими параметрами может обеспечить условия для высокой эффективности процессов испарения частиц, вводимых в плазму транспортирующим газом при реализации технологических процессов получения кремния [4,11] или нанопорошков
    Exact
    [5,6]
    Suffix
    . В плазменных технологиях обогащения нужно ограничиться режимами ВЧИ-плазмотрона с меньшими токами разряда. 4 Рис.6. Распределение средней массовой температуры плазменного потока в ВЧИ-плазмотроне по осевой координате: 1- кJ=50 A; 2- 130 A; 3 – 170 A.

7
Morsli M.E., Proulx P. A chemical non-equilibrium model of an air supersonic ICP // Appl. Phys. 2007. vol. 40. pp. 387-394. DOI: 10.1088/0022-3727/40/2/015
Total in-text references: 1
  1. In-text reference with the coordinate start=1763
    Prefix
    Ключевые слова: ВЧИ-плазмотрон, параметры плазмы, структура потока, вихрь Введение Безэлектродные высокочастотные индукционные (ВЧИ) плазмотроны нашли широкое применение в различных областях техники, науки и технологии [1]. В настоящее время, в связи с разработкой новых технологий получения особо чистых веществ [2-4], нанопорошков [5, 6], плазмохимических технологий
    Exact
    [7]
    Suffix
    и др., интерес к индукционной плазме стабильно возрастает [8, 9]. Между тем, при реализации конкретных технологий одной из основных проблем является отсутствие надежных методик определения рабочих характеристик плазмотрона, связанных с регулированием и оценкой тепловой мощности струи, пространственного распределения основных параметров потока и т.д.

8
Holik. E.F. Simulation results of an inductively-coupled RF plasma torch in two and three dimensions for producing a metal matrix composite for nuclear fuel cladding. Thesis. Master of science. Texas, 2008, 90 p.
Total in-text references: 3
  1. In-text reference with the coordinate start=1824
    Prefix
    В настоящее время, в связи с разработкой новых технологий получения особо чистых веществ [2-4], нанопорошков [5, 6], плазмохимических технологий [7] и др., интерес к индукционной плазме стабильно возрастает
    Exact
    [8, 9]
    Suffix
    . Между тем, при реализации конкретных технологий одной из основных проблем является отсутствие надежных методик определения рабочих характеристик плазмотрона, связанных с регулированием и оценкой тепловой мощности струи, пространственного распределения основных параметров потока и т.д.

  2. In-text reference with the coordinate start=4947
    Prefix
    Максвелла (без учета тока смещения) были записаны через векторный магнитный потенциалA в виде [11]: 2 ()к ин 0   Ajj, (1) где кj- плотность тока в витках катушки индуктора, определяемая параметрами ВЧИисточника электропитания, инj- плотность индукционного тока в плазме (индукционными токами в витках катушки индуктора и в трубке подачи транспортирующего газа можно пренебречь
    Exact
    [8]
    Suffix
    ). В случае, когда ток в катушках индуктора изменяется по синусоидальному закону с частотой , вектор его плотности может быть представлен в комплексной форме, то есть: При этом все искомые вектораинj,,,A E B так же могут быть записаны в комплексной форме: Где величиныкjrc,инjrc, Аrc, ErcиBrcявляются векторами комплексных амплитуд соответственно плотности тока в витках катушк

  3. In-text reference with the coordinate start=8247
    Prefix
    газа, 3 - канал подачи охлаждающего газа Краевые условия для магнитного потенциала задаются следующим образом:  z=0: 0 0 z A r      при 028;мм.5r 00zA примм 28.5125;ммr  z=400мм: 400мм0zA при 01м;м25r  r=0: 0 0 r A r      при 04м.м00z  r=125мм: 125мм0rA при 04м.м00z  на поверхностях витков индуктора выполняются условия, сформулированные в
    Exact
    [8]
    Suffix
    . На поверхностях стенок каналов выполняются условия непрерывности и равенства нормальных к поверхности стенок производных магнитного потенциала в материале стенок, газа или плазме. Таблица.2. Размеры ВЧИ-плазмотрона Z1=50 мм Z2=50 мм Z3=63 мм Z4=121 мм Z5=400 мм R1=1.7 мм R2=18.8мм R3=25 мм R4=33 мм R5=125 мм Dин=6 мм 1=3 мм 2=2.2 мм 3=3.5 мм – Решение системы уравнений (3) позволяе

9
Sanaz A. E. A modeling framework for the synthesis of carbon nanotubes by RF plasma technology // Thesis. Doctor of Philosophy. Torento, 2013, 184 p.
Total in-text references: 1
  1. In-text reference with the coordinate start=1824
    Prefix
    В настоящее время, в связи с разработкой новых технологий получения особо чистых веществ [2-4], нанопорошков [5, 6], плазмохимических технологий [7] и др., интерес к индукционной плазме стабильно возрастает
    Exact
    [8, 9]
    Suffix
    . Между тем, при реализации конкретных технологий одной из основных проблем является отсутствие надежных методик определения рабочих характеристик плазмотрона, связанных с регулированием и оценкой тепловой мощности струи, пространственного распределения основных параметров потока и т.д.

10
Гришин Ю.М., Козлов Н.П., Скрябин А.С. Эффективность получения кремния из кварца в газоплазменном аргоновом потоке с добавкой водорода // Инженерный журнал: наука и инновации. 2013. No 5. DOI: 10.18698/2308-6033-2013-5-716
Total in-text references: 1
  1. In-text reference with the coordinate start=2522
    Prefix
    Это вызывает необходимость проведения широкого круга расчетных и экспериментальных исследований, направленных на оптимизацию конструктивных и энергомощностных параметров различных технологических ВЧИ-плазмотронов. Один из основных вариантов технологического ВЧИ-плазмотрона, предназначенного для получения особо чистого поликристаллического кремния
    Exact
    [10]
    Suffix
    , схематично изображен на рис. 1. Плазмотрон (со средней электрической мощностью до 10 кВт) имеет внешний кварцевый цилиндрический канал (поз.5), вокруг которого располагается спираль индуктора (поз.1).

11
Смайт В. Электростатика и электродинамика. М.: Иностранная литература, 1954. 604 с.
Total in-text references: 2
  1. In-text reference with the coordinate start=4661
    Prefix
    Выполнение этих допущений позволяет рассматривать электромагнитные и газодинамические процессы как двухмерные в цилиндрической системе координат r, z (2D-модель). 1.1 Уравнения электромагнитного поля Уравнения Максвелла (без учета тока смещения) были записаны через векторный магнитный потенциалA в виде
    Exact
    [11]
    Suffix
    : 2 ()к ин 0   Ajj, (1) где кj- плотность тока в витках катушки индуктора, определяемая параметрами ВЧИисточника электропитания, инj- плотность индукционного тока в плазме (индукционными токами в витках катушки индуктора и в трубке подачи транспортирующего газа можно пренебречь [8]).

  2. In-text reference with the coordinate start=17317
    Prefix
    Плазменный поток с такими параметрами может обеспечить условия для высокой эффективности процессов испарения частиц, вводимых в плазму транспортирующим газом при реализации технологических процессов получения кремния
    Exact
    [4,11]
    Suffix
    или нанопорошков [5,6]. В плазменных технологиях обогащения нужно ограничиться режимами ВЧИ-плазмотрона с меньшими токами разряда. 4 Рис.6. Распределение средней массовой температуры плазменного потока в ВЧИ-плазмотроне по осевой координате: 1- кJ=50 A; 2- 130 A; 3 – 170 A.

12
Abeele D.V., Degrez G. Similarity analysis for the high-pressure inductively coupled plasma source // Plasma Sources Sci. Technol. 2004, vol.13, pp. 680–690. DOI: 10.1088/09630252/13/4/018
Total in-text references: 1
  1. In-text reference with the coordinate start=9322
    Prefix
    Для принятых значений диаметров каналов плазмотрона и расходов всех газовых потоков значение числа Re не превышает величину 103, так, что течение плазмы считали ламинарным. Теплофизические параметры плазмы определялись в приближении локального термодинамического равновесии по известным экспериментальным и расчетным данным
    Exact
    [12, 13]
    Suffix
    . Расчет газодинамических параметров дозвукового осесимметричного стационарного плазменного потока в каналах плазмотрона с учетом действия электромагнитных сил и джоулевого тепловыделения (потери энергии с излучением являлись пренебрежимо малыми) проведен на основе следующей системы уравнений [14]:  уравнение неразрывности: 1 0 ur v zrr    ; (6)  уравнение движения: 

13
Белов Г.В. Термодинамическое моделирование: методы, алгоритмы, программы. М.: Научный Мир, 2002. 184 с.
Total in-text references: 1
  1. In-text reference with the coordinate start=9322
    Prefix
    Для принятых значений диаметров каналов плазмотрона и расходов всех газовых потоков значение числа Re не превышает величину 103, так, что течение плазмы считали ламинарным. Теплофизические параметры плазмы определялись в приближении локального термодинамического равновесии по известным экспериментальным и расчетным данным
    Exact
    [12, 13]
    Suffix
    . Расчет газодинамических параметров дозвукового осесимметричного стационарного плазменного потока в каналах плазмотрона с учетом действия электромагнитных сил и джоулевого тепловыделения (потери энергии с излучением являлись пренебрежимо малыми) проведен на основе следующей системы уравнений [14]:  уравнение неразрывности: 1 0 ur v zrr    ; (6)  уравнение движения: 

14
Морозов А.И. Введение в плазмодинамику. М.: Физматлит, 2008. 616 с.
Total in-text references: 1
  1. In-text reference with the coordinate start=9625
    Prefix
    Расчет газодинамических параметров дозвукового осесимметричного стационарного плазменного потока в каналах плазмотрона с учетом действия электромагнитных сил и джоулевого тепловыделения (потери энергии с излучением являлись пренебрежимо малыми) проведен на основе следующей системы уравнений
    Exact
    [14]
    Suffix
    :  уравнение неразрывности: 1 0 ur v zrr    ; (6)  уравнение движения:   11 1 ; 11 1 2. 2 uur vupuu r zrrzzzr rr uu rF zzzr rr ur vp r zrrrzzr rr u rF zrzr rr r                                        

15
Дресвина С.В. Низкотемпературная плазма. ВЧ и СВЧ плазмотроны. Новосибирск: Наука, 1992. 319 с.
Total in-text references: 1
  1. In-text reference with the coordinate start=18450
    Prefix
    Отсюда следует, что при использовании ВЧИ-плазмотрона с газовым охлаждением (при выбранных расходах плазмообразующего и охлаждающего газов) необходимо уменьшить амплитуду тока в индукторе до величин 130-150 А. При необходимости увеличения мощности плазмотрона, требуется применение ВЧИ-плазмотрона с водяным охлаждением
    Exact
    [15]
    Suffix
    . 2.3 Распределения давления и линии тока в ВЧИ плазматроне. Распределения избыточного давления в плазмотроне для кJ=170А показаны на рис. 7. Максимальное давление в плазменном потоке имеет место в районе оси плазмотрона с центром приблизительно на расстоянии90ммz от входного сечения (0z).