The 11 references with contexts in paper D. Duhopel'nikov V., Д. Духопельников В. (2016) “Измерение индукции магнитного поля и моделирование холловского тока в разряде магнетронной распылительной системы // Measurement of Magnetic Field and Hall Current Modeling in Discharge of Magnetron Sputtering System” / spz:neicon:technomag:y:2015:i:0:p:12-20

1
Кузмичёв А.И. Магнетронные распылительные системы. Кн.1. Введение в физику и технику магнетронного распыления. Киев: Аверс, 2008. 244 с.
Total in-text references: 1
  1. In-text reference with the coordinate start=1491
    Prefix
    Ключевые слова: магнетрон, магнитное поле, искажение, холловский ток, тонкие плёнки, покрытия, плазма Введение Метод магнетронного распыления давно и широко используется в технологии нанесения тонких пленок
    Exact
    [1-4]
    Suffix
    . Однако недостаток знаний о строении магнетронного разряда и особенностях физических процессов в нем ограничивает возможности дальнейшего развития и разработки расчетных методик и методик проектирования магнетронных распылительных систем (МРС).

2
Духопельников Д.В. Магнетронные распылительные системы. В 2 ч. Ч. 1. Устройство, принципы работы, применение: учеб. пособие. М.: Изд-во МГТУ им. Н.Э. Баумана, 2014. 53 с.
Total in-text references: 1
  1. In-text reference with the coordinate start=1491
    Prefix
    Ключевые слова: магнетрон, магнитное поле, искажение, холловский ток, тонкие плёнки, покрытия, плазма Введение Метод магнетронного распыления давно и широко используется в технологии нанесения тонких пленок
    Exact
    [1-4]
    Suffix
    . Однако недостаток знаний о строении магнетронного разряда и особенностях физических процессов в нем ограничивает возможности дальнейшего развития и разработки расчетных методик и методик проектирования магнетронных распылительных систем (МРС).

3
Данилин Б.С., Сырчин В.К. Магнетронные распылительные системы. М.: Радио и связь, 1982. 72 c.
Total in-text references: 1
  1. In-text reference with the coordinate start=1491
    Prefix
    Ключевые слова: магнетрон, магнитное поле, искажение, холловский ток, тонкие плёнки, покрытия, плазма Введение Метод магнетронного распыления давно и широко используется в технологии нанесения тонких пленок
    Exact
    [1-4]
    Suffix
    . Однако недостаток знаний о строении магнетронного разряда и особенностях физических процессов в нем ограничивает возможности дальнейшего развития и разработки расчетных методик и методик проектирования магнетронных распылительных систем (МРС).

4
Марахтанов М.К., Духопельников Д.В., Воробьёв Е.В., Кириллов Д.В. Трибологические свойства серебряных покрытий, полученных методом магнетронного распыления // Наноинженерия. 2014. No 9 (39). С. 30-32.
Total in-text references: 1
  1. In-text reference with the coordinate start=1491
    Prefix
    Ключевые слова: магнетрон, магнитное поле, искажение, холловский ток, тонкие плёнки, покрытия, плазма Введение Метод магнетронного распыления давно и широко используется в технологии нанесения тонких пленок
    Exact
    [1-4]
    Suffix
    . Однако недостаток знаний о строении магнетронного разряда и особенностях физических процессов в нем ограничивает возможности дальнейшего развития и разработки расчетных методик и методик проектирования магнетронных распылительных систем (МРС).

5
Марахтанов М.К., Духопельников Д.В., Ивахненко С.Г., Воробьев Е.В. Экспериментальное подтверждение эффекта азимутального отклонения ионов в двигателях с анодным слоем // Наука и образование. МГТУ им. Н.Э. Баумана. Электрон. журн. 2012. No 11. С. 233-238. DOI: 10.7463/1112.0483882
Total in-text references: 1
  1. In-text reference with the coordinate start=2583
    Prefix
    Полученные в результате ионизации рабочего газа ионы ускоряются приложенным разрядным напряжением в направлении катода-мишени и распыляют ее. Магнитное поле оказывает слабое влияние на ионы, незначительно меняя их траекторию
    Exact
    [5]
    Suffix
    . При этом в скрещенных электрических и магнитных полях возникает электронный холловский ток плотностью jхолл, который создает на внешней стороне разряда, со стороны анода, магнитное поле Вхолл , усиливающее поле Bм магнитной системы (рис.1).

6
Духопельников Д.В. Магнетронные распылительные системы с электромагнитами: дис. ... канд. техн. наук. М., 2007. 202 с.
Total in-text references: 1
  1. In-text reference with the coordinate start=3455
    Prefix
    Схема полей и токов в разряде МРС: Bм –магнитное поле созданное магнитной системой; Bхолл –магнитное поле холловского тока; E-напряженность электрического поля: jхолл –электронный холловский ток; Veх- скорость дрейфа электронов При теоретическом анализе параметров плазмы в МРС важно знать, допустимо ли пренебрегать изменением магнитного поля в разряде, вызванным холловским током
    Exact
    [6]
    Suffix
    , [7]. Например, импульсные магнетроны (HiPIMS-high power impulse magnetron sputtering) при своей работе могут значительно искажать магнитные поля, создаваемые магнитной системой [8]. Ранее в работе [9] производились оценки отношения холловского тока к току разряда, исходя из предположения о классической проводимости плазмы в магнитном поле.

7
Musschoot J., Haemers J. Qualitative model of the magnetron discharge // Vacuum. 2009. Vol. 84, iss. 4. P. 488-493. DOI:10.1016/j.vacuum.2009.10.011
Total in-text references: 1
  1. In-text reference with the coordinate start=3460
    Prefix
    Схема полей и токов в разряде МРС: Bм –магнитное поле созданное магнитной системой; Bхолл –магнитное поле холловского тока; E-напряженность электрического поля: jхолл –электронный холловский ток; Veх- скорость дрейфа электронов При теоретическом анализе параметров плазмы в МРС важно знать, допустимо ли пренебрегать изменением магнитного поля в разряде, вызванным холловским током [6],
    Exact
    [7]
    Suffix
    . Например, импульсные магнетроны (HiPIMS-high power impulse magnetron sputtering) при своей работе могут значительно искажать магнитные поля, создаваемые магнитной системой [8]. Ранее в работе [9] производились оценки отношения холловского тока к току разряда, исходя из предположения о классической проводимости плазмы в магнитном поле.

8
Abolmasov S.N., Bizyukov A.A. On the Magnetic Field Profile in a High-Power Planar Magnetron Discharge // IEEE Transactions on Plasma Science. 2005. Vol. 33, no. 4. P. 4471449. DOI: 10.1109/tps.2005.852358
Total in-text references: 2
  1. In-text reference with the coordinate start=3636
    Prefix
    холловский ток; Veх- скорость дрейфа электронов При теоретическом анализе параметров плазмы в МРС важно знать, допустимо ли пренебрегать изменением магнитного поля в разряде, вызванным холловским током [6], [7]. Например, импульсные магнетроны (HiPIMS-high power impulse magnetron sputtering) при своей работе могут значительно искажать магнитные поля, создаваемые магнитной системой
    Exact
    [8]
    Suffix
    . Ранее в работе [9] производились оценки отношения холловского тока к току разряда, исходя из предположения о классической проводимости плазмы в магнитном поле. Из них следовало, что холловский ток может превышать ток разряда более чем на два порядка.

  2. In-text reference with the coordinate start=12135
    Prefix
    Оценка увеличения индукции магнитного поля на оси МРС по выражению (2) даёт результат, близкий к полученным экспериментальным данным. Это согласуется с экспериментальными результатами работы [11] и расчетами, произведенными в работе
    Exact
    [8]
    Suffix
    .

9
Schiller S., Heising V., Goedicke K. Electron beam evaporation and high-rate sputtering with plasmatron/magnetron systems - a comparison // Vakuum Technik. 1978. Vol. 21, no.1. P. 51-56.
Total in-text references: 1
  1. In-text reference with the coordinate start=3658
    Prefix
    - скорость дрейфа электронов При теоретическом анализе параметров плазмы в МРС важно знать, допустимо ли пренебрегать изменением магнитного поля в разряде, вызванным холловским током [6], [7]. Например, импульсные магнетроны (HiPIMS-high power impulse magnetron sputtering) при своей работе могут значительно искажать магнитные поля, создаваемые магнитной системой [8]. Ранее в работе
    Exact
    [9]
    Suffix
    производились оценки отношения холловского тока к току разряда, исходя из предположения о классической проводимости плазмы в магнитном поле. Из них следовало, что холловский ток может превышать ток разряда более чем на два порядка.

10
Borah S.M., Pal A.R., Bailung H., Chutiay J. Effect of ExB electron drift and plasma discharge in dc magnetron sputtering plasma // Chinese Physics B. 2011. Vol. 20, no. 1. P. 014701-1 – 014701-9. DOI: 10.1088/1674-1056/20/1/014701
Total in-text references: 1
  1. In-text reference with the coordinate start=3910
    Prefix
    Ранее в работе [9] производились оценки отношения холловского тока к току разряда, исходя из предположения о классической проводимости плазмы в магнитном поле. Из них следовало, что холловский ток может превышать ток разряда более чем на два порядка. В работе
    Exact
    [10]
    Suffix
    проводились измерения скорости дрейфа электронов и плотности холловского тока зондом Маха, представляющего собой двойной плоский ленгмюровский зонд, и потенциала плазмы горячим ленгмюровским зондом.

11
Rossnagel S.M., Kaufman H.R. Induced drift currents in circular planar magnetrons // Journal of Vacuum Science & Technology A. Vacuum Surfaces and Films. 1987. Vol. 5, no. 1. P. 88-91. DOI: 10.1116/1.574822
Total in-text references: 2
  1. In-text reference with the coordinate start=4320
    Prefix
    В работе [10] проводились измерения скорости дрейфа электронов и плотности холловского тока зондом Маха, представляющего собой двойной плоский ленгмюровский зонд, и потенциала плазмы горячим ленгмюровским зондом. Но распределения плотности холловского тока по сечению разряда не производилось, что не позволяет точно подсчитать полную его величину. В работе
    Exact
    [11]
    Suffix
    проводили измерения величины холловского тока по изменению величины индукции магнитного поля на границе разряда со стороны анода. Было определено, что величина холловского тока превосходит ток разряда в 2-9 раз.

  2. In-text reference with the coordinate start=12094
    Prefix
    Оценка увеличения индукции магнитного поля на оси МРС по выражению (2) даёт результат, близкий к полученным экспериментальным данным. Это согласуется с экспериментальными результатами работы
    Exact
    [11]
    Suffix
    и расчетами, произведенными в работе [8].