The eight linked references in paper A. Burmakou P., V. Kuleshov N., A. Stoliarov V., А. Бурмаков П., В. Кулешов Н., А. Столяров В. (2018) “СИСТЕМА СТАБИЛИЗАЦИИ ПРОЦЕССА РЕАКТИВНОГО МАГНЕТРОННОГО РАСПЫЛЕНИЯ // SYSTEM OF STABILIZATION OF REACTIVE MAGNETRON SPUTTERING PROCESS” / spz:neicon:pimi:y:2018:i:2:p:114-120

  1. Brudnik, A. Plasma-emission-controlled magnetron sputtering of TiO2 x thin films / A. Brudnik, Н. Czternastek, K. Zakrzewska // Thin Solid Films. – 1991. – Vol. 199, no. 1. – P. 45–58. doi: 10.1016/0040-6090(91)90051-X
  2. Sproul, W.D. Control of reactive sputtering processes / W.D. Sproul, D.J. Christie, D.C. Carter // Thin Solid Films. – 2005. – Vol. 491, no. 1/2. – P. 1–17. doi: 10.1016/j.tsf.2005.05.022
  3. Бурмаков, А.П. Алгоритмы оптического управления реактивным магнетронным осаждением пленочных покрытий / А.П. Бурмаков, В.Н. Кулешов // Журнал прикладной спектроскопии. – 2012. – Т. 79, No 3. – С. 430–435. doi: 10.1007/s10812-012-9616-0
  4. Бурмаков, А.П. Монохроматизация излучения для спектрального контроля плазменных технологических процессов / А.П. Бурмаков, А.А. Лабуда, Н.Н. Никифоренко // Журнал прикладной спектроскопии. – 1998. – Т. 65, No 4. – С. 587–589. doi: 10.1007/BF02675656