The 4 linked references in paper A. Burmakou P., V. Kuleshov N., A. Stoliarov V., А. Бурмаков П., В. Кулешов Н., А. Столяров В. (2018) “СИСТЕМА СТАБИЛИЗАЦИИ ПРОЦЕССА РЕАКТИВНОГО МАГНЕТРОННОГО РАСПЫЛЕНИЯ // SYSTEM OF STABILIZATION OF REACTIVE MAGNETRON SPUTTERING PROCESS” / spz:neicon:pimi:y:2018:i:2:p:114-120

  1. Brudnik, A. Plasma-emission-controlled magnetron sputtering of TiO2 x thin films / A. Brudnik, Н. Czternastek, K. Zakrzewska // Thin Solid Films. – 1991. – Vol. 199, no. 1. – P. 45–58. doi: 10.1016/0040-6090(91)90051-X
  2. Sproul, W.D. Control of reactive sputtering processes / W.D. Sproul, D.J. Christie, D.C. Carter // Thin Solid Films. – 2005. – Vol. 491, no. 1/2. – P. 1–17. doi: 10.1016/j.tsf.2005.05.022
  3. Бурмаков, А.П. Алгоритмы оптического управления реактивным магнетронным осаждением пленочных покрытий / А.П. Бурмаков, В.Н. Кулешов // Журнал прикладной спектроскопии. – 2012. – Т. 79, No 3. – С. 430–435. doi: 10.1007/s10812-012-9616-0
  4. Бурмаков, А.П. Монохроматизация излучения для спектрального контроля плазменных технологических процессов / А.П. Бурмаков, А.А. Лабуда, Н.Н. Никифоренко // Журнал прикладной спектроскопии. – 1998. – Т. 65, No 4. – С. 587–589. doi: 10.1007/BF02675656