The 8 reference contexts in paper D. Brinkevich I., V. Prosolovich S., Yu. Yankovski N., S. Vabishchevich A., N. Vabishchevich V., V. Gaishun E., Д. Бринкевич И., В. Просолович С., Ю. Янковский Н., С. Вабищевич А., Н. Вабищевич В., В. Гайшун Е. (2016) “СКЛЕРОМЕТРИЧЕСКИЙ МЕТОД ИЗМЕРЕНИЯ МИКРОТВЕРДОСТИ ПЛЕНОК ФОТОРЕЗИСТА НА КРЕМНИИ // MEASUREMENT OF MICROHARDNESS OF PHOTORESIST FILMS ON SILICON BY THE SCRATCHING METHOD” / spz:neicon:pimi:y:2016:i:1:p:77-84

  1. Start
    3796
    Prefix
    Pribory i metody izmerenij [Devices and Methods of Measurements]. 2016, vol. 7, no. 1, pp. 77–84 (in Russian). DOI: 10.21122/2220-9506-2016-7-1-77-84 77 Введение В последние годы интенсивно разрабатываются новые виды резистов для нано- и субмикронной литографии современной электроники
    Exact
    [1, 2]
    Suffix
    . В качестве перспективных материалов для резистов рассматриваются различные полимерные композиции на основе полиметилметакрилата [3, 4], политетрафторэтилена [5], полиимида [6, 7], полиэтилентерефталата [8] и других термически и механически стойких полимеров.
    (check this in PDF content)

  2. Start
    3942
    Prefix
    DOI: 10.21122/2220-9506-2016-7-1-77-84 77 Введение В последние годы интенсивно разрабатываются новые виды резистов для нано- и субмикронной литографии современной электроники [1, 2]. В качестве перспективных материалов для резистов рассматриваются различные полимерные композиции на основе полиметилметакрилата
    Exact
    [3, 4]
    Suffix
    , политетрафторэтилена [5], полиимида [6, 7], полиэтилентерефталата [8] и других термически и механически стойких полимеров. Особенно важную роль играют диазохинон-новолачные (ДХН) резисты [9, 10].
    (check this in PDF content)

  3. Start
    3971
    Prefix
    DOI: 10.21122/2220-9506-2016-7-1-77-84 77 Введение В последние годы интенсивно разрабатываются новые виды резистов для нано- и субмикронной литографии современной электроники [1, 2]. В качестве перспективных материалов для резистов рассматриваются различные полимерные композиции на основе полиметилметакрилата [3, 4], политетрафторэтилена
    Exact
    [5]
    Suffix
    , полиимида [6, 7], полиэтилентерефталата [8] и других термически и механически стойких полимеров. Особенно важную роль играют диазохинон-новолачные (ДХН) резисты [9, 10]. Определение микротвердости фоторезистивных пленок на кремниевых подложках является весьма актуальным, поскольку непосредственно характеризует такие важные свойства фоторезистов, как адгезия к под
    (check this in PDF content)

  4. Start
    3988
    Prefix
    DOI: 10.21122/2220-9506-2016-7-1-77-84 77 Введение В последние годы интенсивно разрабатываются новые виды резистов для нано- и субмикронной литографии современной электроники [1, 2]. В качестве перспективных материалов для резистов рассматриваются различные полимерные композиции на основе полиметилметакрилата [3, 4], политетрафторэтилена [5], полиимида
    Exact
    [6, 7]
    Suffix
    , полиэтилентерефталата [8] и других термически и механически стойких полимеров. Особенно важную роль играют диазохинон-новолачные (ДХН) резисты [9, 10]. Определение микротвердости фоторезистивных пленок на кремниевых подложках является весьма актуальным, поскольку непосредственно характеризует такие важные свойства фоторезистов, как адгезия к подложке и стойкость к
    (check this in PDF content)

  5. Start
    4020
    Prefix
    В качестве перспективных материалов для резистов рассматриваются различные полимерные композиции на основе полиметилметакрилата [3, 4], политетрафторэтилена [5], полиимида [6, 7], полиэтилентерефталата
    Exact
    [8]
    Suffix
    и других термически и механически стойких полимеров. Особенно важную роль играют диазохинон-новолачные (ДХН) резисты [9, 10]. Определение микротвердости фоторезистивных пленок на кремниевых подложках является весьма актуальным, поскольку непосредственно характеризует такие важные свойства фоторезистов, как адгезия к подложке и стойкость к истиранию при кратковременно
    (check this in PDF content)

  6. Start
    4155
    Prefix
    В качестве перспективных материалов для резистов рассматриваются различные полимерные композиции на основе полиметилметакрилата [3, 4], политетрафторэтилена [5], полиимида [6, 7], полиэтилентерефталата [8] и других термически и механически стойких полимеров. Особенно важную роль играют диазохинон-новолачные (ДХН) резисты
    Exact
    [9, 10]
    Suffix
    . Определение микротвердости фоторезистивных пленок на кремниевых подложках является весьма актуальным, поскольку непосредственно характеризует такие важные свойства фоторезистов, как адгезия к подложке и стойкость к истиранию при кратковременном контактном взаимодействии тел в процессе литографии.
    (check this in PDF content)

  7. Start
    4606
    Prefix
    пленок на кремниевых подложках является весьма актуальным, поскольку непосредственно характеризует такие важные свойства фоторезистов, как адгезия к подложке и стойкость к истиранию при кратковременном контактном взаимодействии тел в процессе литографии. Для измерения микротвердости тонких металлических и наноструктурных пленок и покрытий широко используется метод индентирования
    Exact
    [11–13]
    Suffix
    , однако возможность применения указанного метода для пленок полимера до настоящего времени не исследовалась. В то же время для определения микротвердости используется также метод склерометрии, однако работы, описывающие результаты применения указанного метода для исследования тонких полимерных пленок, в доступных авторам данной работы литературных источниках отсутствуют.
    (check this in PDF content)

  8. Start
    8029
    Prefix
    H b skl = 3708 2 , , 78 При каждом измерении на поверхность образца наносилось не менее 50 отпечатков и проводилась обработка результатов измерений с использованием методов математической статистики по методике, изложенной в
    Exact
    [14]
    Suffix
    . Величина микротвердости Нi рассчитывалась по средней величине диагонали отпечатка d согласно формуле: H d i=1854 2 , . тает при увеличении нагрузки. При условии, что глубина проникновения индентора меньше толщины пленки фоторезиста, значения склерометрической микротвердости для одного и того же образца совпадали или были близки друг к другу.
    (check this in PDF content)