The 3 reference contexts in paper D. Brinkevich I., V. Prosolovich S., Yu. Yankovski N., S. Vabishchevich A., N. Vabishchevich V., V. Gaishun E., Д. Бринкевич И., В. Просолович С., Ю. Янковский Н., С. Вабищевич А., Н. Вабищевич В., В. Гайшун Е. (2016) “СКЛЕРОМЕТРИЧЕСКИЙ МЕТОД ИЗМЕРЕНИЯ МИКРОТВЕРДОСТИ ПЛЕНОК ФОТОРЕЗИСТА НА КРЕМНИИ // MEASUREMENT OF MICROHARDNESS OF PHOTORESIST FILMS ON SILICON BY THE SCRATCHING METHOD” / spz:neicon:pimi:y:2016:i:1:p:77-84

  1. Start
    3796
    Prefix
    Ключевые слова: фоторезист, кремний, склерометрия, индентирование, микротвердость. DOI: 10.21122/2220-9506-2016-7-1-77-84 Введение В последние годы интенсивно разрабатываются новые виды резистов для нано- и субмикронной литографии современной электроники
    Exact
    [1, 2]
    Suffix
    . В качестве перспективных материалов для резистов рассматриваются различные полимерные композиции на основе полиметилметакрилата [3, 4], политетрафторэтилена [5], полиимида [6, 7], полиэтилентерефталата [8] и других термически и механически стойких полимеров.
    (check this in PDF content)

  2. Start
    3943
    Prefix
    DOI: 10.21122/2220-9506-2016-7-1-77-84 Введение В последние годы интенсивно разрабатываются новые виды резистов для нано- и субмикронной литографии современной электроники [1, 2]. В качестве перспективных материалов для резистов рассматриваются различные полимерные композиции на основе полиметилметакрилата
    Exact
    [3, 4]
    Suffix
    , политетрафторэтилена [5], полиимида [6, 7], полиэтилентерефталата [8] и других термически и механически стойких полимеров. Особенно важную роль играют диазохинон-новолачные (ДХН) резисты [9, 10].
    (check this in PDF content)

  3. Start
    3972
    Prefix
    DOI: 10.21122/2220-9506-2016-7-1-77-84 Введение В последние годы интенсивно разрабатываются новые виды резистов для нано- и субмикронной литографии современной электроники [1, 2]. В качестве перспективных материалов для резистов рассматриваются различные полимерные композиции на основе полиметилметакрилата [3, 4], политетрафторэтилена
    Exact
    [5]
    Suffix
    , полиимида [6, 7], полиэтилентерефталата [8] и других термически и механически стойких полимеров. Особенно важную роль играют диазохинон-новолачные (ДХН) резисты [9, 10]. Определение микротвердости фоторезистивных пленок на кремниевых подложках является весьма актуальным, поскольку непосредственно характеризует такие важные свойства фоторезистов, как адгезия к под
    (check this in PDF content)