The 4 reference contexts in paper A. Burmakov P., V. Zaikov A., F. Komarov F., O. Lyudchik R., D. Saladukha A., А. Бурмаков П., В. Зайков А., Ф. Комаров Ф., О. Людчик Р., Д. Солодухо А. (2015) “УСТАНОВКА ДЛЯ ИССЛЕДОВАНИЯ ПАРАМЕТРОВ МАГНЕТРОННОЙ И ЛАЗЕРНОЙ ПЛАЗМЫ // DEVICE FOR INVESTIGATION OF MAGNETRON AND PULSED-LASER PLASMA” / spz:neicon:pimi:y:2012:i:1:p:37-40

  1. Start
    1236
    Prefix
    Это связано как с непр ерывным развитием лазерной техники и созданием мощных импульсных лазеров, так и с постановкой ряда новых материаловедческих задач, связанных с получения тонких пленок многокомпонентных материалов, в том числе наноструктурированных
    Exact
    [1, 2]
    Suffix
    . Положительные особенности метода ИЛО: практически мгновенное испарение тонкого слоя вещества мишени, при этом стехиометрия испаренного вещества соответствует стехиометрии исходной мишени [3]; процесс осаждения пленок можно проводить в широком диапазоне давлений рабочего газа – от глубокого вакуума до давлений порядка 100 Па; конс труктивная простота метода и отсу тствие ограничений на в
    (check this in PDF content)

  2. Start
    1425
    Prefix
    созданием мощных импульсных лазеров, так и с постановкой ряда новых материаловедческих задач, связанных с получения тонких пленок многокомпонентных материалов, в том числе наноструктурированных [1, 2]. Положительные особенности метода ИЛО: практически мгновенное испарение тонкого слоя вещества мишени, при этом стехиометрия испаренного вещества соответствует стехиометрии исходной мишени
    Exact
    [3]
    Suffix
    ; процесс осаждения пленок можно проводить в широком диапазоне давлений рабочего газа – от глубокого вакуума до давлений порядка 100 Па; конс труктивная простота метода и отсу тствие ограничений на вид испаряемого вещества, что позволя ет оперативно получать пленки из материалов с различными свойствами (проводники, полупроводники, диэлектрики) без каких-либо конструкционных изме
    (check this in PDF content)

  3. Start
    2161
    Prefix
    К ним относятся: высокие скорости осаждения (до 10 мкм/мин) и хорошая адгезия получа емых покрытий; высокие однородность и плотность покрытий; хорошая управляемость и долговременная устойчивость процесса
    Exact
    [4]
    Suffix
    ; возможность нанесения покрытия сложного состава из металлических мишеней реактивным распылением в газовых смесях инертного и химически активного газов; относительно низкая стоимость процесса осаждения.
    (check this in PDF content)

  4. Start
    2997
    Prefix
    Одновременное использование плазмы магнетронного разряда и лазерной плазмы в процессе осаждения покрытий расширяет энергетический, элементный и зарядовый состав плазмы, что позволяет формировать многокомпонентные покрытия с улучшенными механическими, оптическими и электрическими свойствами. Исследования в этой области начали развиваться в последнее десятилетие
    Exact
    [5, 6]
    Suffix
    . Установк а импульсного лазерного осаждения тонких пленок Для нанесения покрытий композиционно сложных материалов нами предложена и реализована схема классического применения установки ИЛО тонких пленок (рисунок 1).
    (check this in PDF content)