The 24 references in paper A. Burmakou P., V. Kuleshov N., A. Stoliarov V., А. Бурмаков П., В. Кулешов Н., А. Столяров В. (2018) “СИСТЕМА СТАБИЛИЗАЦИИ ПРОЦЕССА РЕАКТИВНОГО МАГНЕТРОННОГО РАСПЫЛЕНИЯ // SYSTEM OF STABILIZATION OF REACTIVE MAGNETRON SPUTTERING PROCESS” / spz:neicon:pimi:y:2018:i:2:p:114-120

1
Berg, S. Fundamental understanding and modeling of reactive sputtering processes / S. Berg, T. Nyberg // Thin Solid Films. – 2005. – Vol. 476, no. 2. – P. 215–230.
(check this in PDF content)
2
Берлин, Е.В. Ионно-плазменные процессы в тонкопленочной технологии / Е.В. Берлин, Л.А. Сейдман.– Москва: Техносфера, 2010. – 528 с.
(check this in PDF content)
3
Brudnik, A. Plasma-emission-controlled magnetron sputtering of TiO2 x thin films / A. Brudnik, Н. Czternastek, K. Zakrzewska // Thin Solid Films. – 1991. – Vol. 199, no. 1. – P. 45–58. doi: 10.1016/0040-6090(91)90051-X
(check this in PDF content)
4
Sproul, W.D. Control of reactive sputtering processes / W.D. Sproul, D.J. Christie, D.C. Carter // Thin Solid Films. – 2005. – Vol. 491, no. 1/2. – P. 1–17. doi: 10.1016/j.tsf.2005.05.022
(check this in PDF content)
5
Регулятор расхода газа [Электронный ресурс] / ООО «ВТТ». – Режим доступа: https://vacuumtt.all. biz/regulyator-rashoda-gaza-g627980. – Дата доступа: 14 февраля 2018 г.
(check this in PDF content)
6
Plasma monitor and process control systems [Electronic resource] / PLASUS Spectroscopic plasma monitor and process control systems. – Mode of access: http://www.plasus.de/index.php?page=system_ allgemein⟨=en. – Date of access: 14.02.2018.
(check this in PDF content)
7
Speedflo [Electronic resource] / Gencoa. – Mode of access: http://www.gencoa.com/speedflo. – Date of access: 14.02.2018.
(check this in PDF content)
8
Свадковский, И.В. Ионно-плазменные методы формирования тонкопленочных покрытий: Монография / И.В. Свадковский; под ред. А.П. Достанко. – Минск: Бестпринт, 2002. – 214 с. Приборы и методы измерений 2018. – Т. 9, No 2. – С. 114–120 Бурмаков А.П. и др.
(check this in PDF content)
9
Достанко, А.П. Плазменные процессы в производстве изделий электронной техники: в 3-х т. / А.П Достанко; под ред. А.П. Достанко. – Минск : ФУАинформ, 2000. – 495 с.
(check this in PDF content)
10
Бурмаков, А.П. Алгоритмы оптического управления реактивным магнетронным осаждением пленочных покрытий / А.П. Бурмаков, В.Н. Кулешов // Журнал прикладной спектроскопии. – 2012. – Т. 79, No 3. – С. 430–435. doi: 10.1007/s10812-012-9616-0
(check this in PDF content)
11
Бурмаков, А.П. Монохроматизация излучения для спектрального контроля плазменных технологических процессов / А.П. Бурмаков, А.А. Лабуда, Н.Н. Никифоренко // Журнал прикладной спектроскопии. – 1998. – Т. 65, No 4. – С. 587–589. doi: 10.1007/BF02675656
(check this in PDF content)
12
Компактный широкодиапазонный спектрометр Модель S100 [Электронный ресурс] / SOLAR Laser Systems. – Режим доступа: https://solarlaser.com/ ru/products/compact-spectrometers/compact-wide-rangespectrometer-model-s100/. – Дата доступа: 14.02.2018 г.
(check this in PDF content)
1

(check this in PDF content)
2

(check this in PDF content)
3

(check this in PDF content)
4

(check this in PDF content)
5

(check this in PDF content)
6

(check this in PDF content)
7

(check this in PDF content)
8

(check this in PDF content)
9

(check this in PDF content)
10

(check this in PDF content)
11

(check this in PDF content)
12

(check this in PDF content)