The 6 references in paper D. Brinkevich I., V. Prosolovich S., Yu. Yankovski N., S. Vabishchevich A., N. Vabishchevich V., V. Gaishun E., Д. Бринкевич И., В. Просолович С., Ю. Янковский Н., С. Вабищевич А., Н. Вабищевич В., В. Гайшун Е. (2016) “СКЛЕРОМЕТРИЧЕСКИЙ МЕТОД ИЗМЕРЕНИЯ МИКРОТВЕРДОСТИ ПЛЕНОК ФОТОРЕЗИСТА НА КРЕМНИИ // MEASUREMENT OF MICROHARDNESS OF PHOTORESIST FILMS ON SILICON BY THE SCRATCHING METHOD” / spz:neicon:pimi:y:2016:i:1:p:77-84

1
Моро, У. Микролитография. Принципы, методы, материалы. В 2-х ч. Ч. 2 / У. Моро – М. : Мир, 1990. – 632 с.
(check this in PDF content)
2
Булгакова, С.А. Химически усиленные резисты для литографии высокого разрешения / С.А. Булгакова [и др.] // Микроэлектроника. – 2013. – Т. 42, No 3. – С. 206–217.
(check this in PDF content)
3
Рау, Э.И. Комплексные исследования эффектов зарядки полимерного резиста (ПММА) при электронной литографии / Э.И. Рау [и др.] // Микроэлектроника. – 2013. – Т. 42, No 2. – С. 116–126.
(check this in PDF content)
4
Генцелев, А.Н. Исследование влияния синхротронного излучения на термофизические параметры рентгенорезиста ПММА /А.Н. Генцелев [и др.] // Поверхность. – 2012. – No 1. – С. 14–20.
(check this in PDF content)
5
Назьмов, В.П. Абляция политетрафторэтилена под воздействием синхротронного излучения при формировании микроструктур с высоким аспектным отношением / В.П. Назьмов [и др.] // Поверхность. – 2001. – No 3. – С. 10–14.
(check this in PDF content)
6
Guoping Mao, Somasiri N.LD. ,Stacey N.A. Photoimageable, aqueous acid soluble polyimide polymers: US patent 6559245, publication 06 05.2003 / 3M Innovative Properties Company. ent 5599655, publication 04.02.1997 / Amoco Corporation.
(check this in PDF content)