The 17 references in paper А. Дедкова А., Н. Дюжев А., В. Киреев Ю., И. Клементе Э., А. Мяконьких В., К. Руденко В. (2019) “ИССЛЕДОВАНИЯ ВОЗДЕЙСТВИЯ ЛАЗЕРНОГО ИЗЛУЧЕНИЯ НА ПАРАМЕТРЫ ПЛЕНОК ОКСИДА АЛЮМИНИЯ, ОСАЖДАЕМЫХ В ПРОЦЕССЕ АТОМНО-СЛОЕВОГО ОСАЖДЕНИЯ” / spz:neicon:nanorf:y:2018:i:0:p:51-57

1
Киреев В.Ю., Столяров А.А. Технологии микроэлектроники. Химическое осаждение из газовой фазы. М.: Техносфера,
(check this in PDF content)
2
06. 192 с. 2. Gutsche M., Seidl H., Hecht T. Schroeder U. Atomic layer deposition for advanced DRAM applications. In: Future Fab. 14th issue. London: Technology Publishing Ltd., 2003. P. 213–217.
(check this in PDF content)
3
Семикина Т.В., Комащенко В.Н., Шмырева Л.Н. Нанотехнологии: основы метода атомного послойного осаждения, оборудование, применение в наноэлектронике. В книге: Электроника и связь. Тематический выпуск «Электроника и нанотехнологии». Часть 1. 2009. С. 60–66.
(check this in PDF content)
4
Atomic layer deposition for semiconductors / Editors Cheol Seong Hwang, Cha Young Yoo. New York: Springer Science + Business Media, 2014. 263 p.
(check this in PDF content)
5
Vogler D., Doe P. Atomic layer deposition special report: Where’s the metal? // Solid State Technology. 2003. V. 46. P. 35–40.
(check this in PDF content)
6
Алесковский В.Б. Стехиометрия и синтез твердых соединений. Л.: Наука, 1976. 140 с.
(check this in PDF content)
7
Алесковский В.Б. Структурная организация вещества // Информационный листок дирекции НИИ химии и деканата химического факультета от 04.06.2002. No 15/02 (190). С. 1–4.
(check this in PDF content)
8
Малыгин А.А. Нанотехнологии молекулярного наслаивания (обзор) // Российские нанотехнологии. 2007. Т. 2. No 3–4. С. 87–100.
(check this in PDF content)
9
Suntola T., Antson J. Surface chemistry of atomic layer deposition. U.S. Patent No. 4058430 (15.11.1977).
(check this in PDF content)
10
Алехин А.П., Болейко Г.М., Гудкова С.А. Тетюхин Д.В. Синтез биосовместимых поверхностей методами нанотехнологий // Российские нанотехнологии. 2010. Т. 5. No 9–10. С. 128–136.
(check this in PDF content)
11
Белов А.Н., Гусев Е.Э., Дюжев Н.А., Золотарев В.И., Киреев В.Ю. Суперконденсатор на основе КМОП-технологии. Патент РФ No 2629364 (07.12. 2016).
(check this in PDF content)
12
Путконен М., Тузовский В. Новые применения атомнослоевого осаждения // Наноиндустрия. 2010. No 5. С. 18–21.
(check this in PDF content)
13
Репинский С.М. Химическая кинетика роста слоев диэлектриков // Современные проблемы физической химии поверхности полупроводников. Новосибирск: Наука. Сибирское отделение, 1989. С. 90–152.
(check this in PDF content)
14
Майоров Э. Реализация нанотехнологии атомно-слоевого осаждения на оборудовании компании Beneq: от лаборатории к промышленности // Компоненты и технологии. 2013. No 10. С. 48–53.
(check this in PDF content)
15
Искандарова И.М., Книжник А.А., Рыкова Е.А., Багатурьянц А.А., Уманский С.Я., Потапкин Б.В., Stoker M.W. Моделирование роста пленки в процессе атомного осаждения слоев // Физико-химическая кинетика в газовой динамике. 2006. No 4. С. 388–402.
(check this in PDF content)
16
Сайко Д.С., Ганжа В.В., Титов С.А., Арсентьев И.Н., Костюченко А.В., Солдатенко С.А. Адсорбционные слои воды на поверхности тонких пленок оксида алюминия // Журнал технической физики. 2009. Т. 79. No 12. С. 86–91.
(check this in PDF content)
17
Яворский Б.М., Детлаф А.А., Лебедев А.К. Справочник по физике. 8-е изд. М.: Оникс, 2006. 1056 с.
(check this in PDF content)